Chapter032 光刻机：至极变态的条件(第1/1 页)

送走李强，布一楠开始查看最近的各项工程进度。 水厂建好后，就要开始修建超纯水系统来观测超新星爆炸，将确实的证据摆在人类面前。 之前布一楠思考很久，还是决定要修建这个，因为这系统还有另外一个作用就是为未来研究中微子核裂变，是研究能源矩阵的基础研究。 翻看资料，反渗透膜的技术已经被基地中一名材料学专家转化为了工业技术，可实现量产了。 就是仪器设备这块还需要在打磨一下。 布一楠看了设计图之后又将这份设计做了些许修改和调整。 现在国家可真的没有太多钱了，自己的任何一项研究都需要海量资金。 虽然邓玉峰从来没说，不过她又不是傻的。 外附机械骨骼这件事就能看出来，国家在努力挣钱呢。 要不要再丢出一点东西，换钱？ 悬浮车？ 虚拟游戏？ 磁悬浮技术拿出来了，估计产能够呛。 虚拟游戏需要脑机技术，超级芯片制造出来之后才能实现。 这麻爪了。 布一楠暗嘲自己就不是个能发大财的人，手里一堆王炸居然找不出一个能挣钱的东西。 算了，还是让别人操心去吧。 她只管把技术拿出来就行。 还是先搞完自己的芯片大业吧，这玩意一出，无人能敌。 之前说完了龟腚……硅锭到硅片的过程。 接下来就是将硅片光刻制成晶圆，这里就是整个芯片制造的另一个难点。 光刻就需要光刻机。 之前提到（第十章）EUV极紫光源的存在。 根据瑞利定理，要制造纳米级芯片，光刻的光波就要更短更小。 EUV是人类现阶段能实现的最短光13.5纳米。 这个光是利用40千瓦激光驱动深紫外线光（DUV）发出的193纳米光打击液态金属锡来实现。 为了得到波长更短，强度足够的光，需用光脉冲击打液态金属锡（20微米，从高空掉落的运动体）高频重复五万次每秒。 利用金属吸收反射的原理将光波变得更短，但是这种光的波长是短了，强度又不够，怎么办？ 那就打击2次! 动次打次,动次打次~ 光有了，就相当雕刻于有了刀。 光刻机还需要反射镜。 （反射镜原理不用讲吧，八年级物理，不会的都是九漏鱼~自己自首去） 这种反射镜只反射13.5纳米的光，镜子直径30cm,镜面要求非常平整。 平整到什么变态程度呢？ 如果把这面镜子放大到地球那么大，这上面只允长一根头发那么大的误差，大约0.05纳米左右的凸起厚度。 （像我这种天生头发丝细的人的头发大约就是50微米（1微米=1000纳米），我有个朋友她一根头发顶我五根。(?ε?｀)……羡慕死了……） 这样的反射镜每个镜子有40层这种镜面！一台光刻机上有这样的镜子最少20个！！ ┴┴︵╰（‵□′）╯︵┴┴、 看到这里，有没有被逼疯？ 这是目前宇宙中最光滑的人造结构了。 EUV的光通过反射、拐弯、过滤杂光，调整形状之后，每次又都会损伤30%的光强，最后到达硅片上的就只剩下2%。 所以得出结论，造光刻机好难。 芯片制造的模板叫做光掩模，这个就是遮光膜和高纯度石英玻璃基板合成光掩模底板，然后再经过绘图显影、蚀刻、去除光致抗蚀剂清洗后制造而成的。 （手搓芯这下可算会了，这不就是用光刻机通过光掩模在硅片上划拉两下的事吗？有手就行！当初看过一本小说中，主人公熬夜一个月愣是把0.2纳米光刻机给造出来了！我只想说：我的天哪！=????=????(●???● |||)） 整个光刻机光刻时候有些像我们玩的光线游戏，通过调整镜子角度反射光线达到自己的目的。 芯片就是通过光刻机一次次调整镜子将光传送到指定区域进行光刻。 整个光刻机和硅片的前生后世都已经差不多说完，这里面其实单拿出来看好像也不难。 但你会发现所有的这些都有一个精准度，纯度。 所有材料要求高纯度，不管是气体液体全部都需要达到最大的那只阈值。 而这个纯度恰好就是摆在所有人面前的难关。 布一楠把所有工艺写了出来，难点标注。 可即便这样她还是不放心。 外面出来敲门声，听到动静布一楠应了一声后凌澈又推着小餐车走了进来。 “指挥官，吃饭了。” “……不想吃……” 布一楠看到餐车上的一份糊糊就没了胃口。 凌澈轻声道：“这两天您只能吃流食，过两天就好了，起码让肚子里伤口长好啊！之前胃穿孔……亏你能忍住疼啊……” “……凌哥的口气就像在哄孩子！” 布一楠笑了起来，她的副官可从来没有哄过她。小主，这个章节后面还有哦，请点击下一页继续阅读，后面更精彩！